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高密度探針卡良率救星:3D 輪廓量測導入與製程診斷方案
應用範圍
1. 半導體製造(Semiconductor Fabrication)
2. IC 封裝與先進封裝(Packaging / Advanced Packaging)
3. PCB 與載板(ABF、BT、HDI)
4. 光電面板(Display / MicroLED / OLED)
5. MEMS、感測器、微機電
6. 材料科學(薄膜、金屬、陶瓷)
優點
1. 聚焦3D輪廓量測產品價值,直接對應高密度探針卡良率提升需求。
2. 功能設計完整,涵蓋即時診斷、全區掃描與相對高度分析。
3. 強調標準化與跨部門應用,提升導入效益與投資回報。

別讓錯誤的量測邏輯,成為製程良率的隱形殺手

為什麼你的量測數據無法轉化為良率?

在高密度探針卡(Probe Card)的製程中,許多企業面臨的困境不是「技術不夠好」,而「目標定義不清」。你是否也遇過以下狀況:
1. 引進了高階設備,但製程判讀效率不增反減?
2. 面對海量數據(Big Data),卻找不到導致良率下降的真兇?
3. 探針接觸穩定度不佳,卻只能依賴單點高度數值猜測?
我們主張:技術只是工具,解決問題才是目的。在升級 3D 輪廓量測前,我們協助您釐清以下 4 大核心維度,確保每一分投資都能精準對應製程痛點。
高密度探針卡良率救星:3D 輪廓量測導入與製程診斷方案

我們的解決方案:四大維度深度評估

1. 量測目的 (Purpose):速度與穩定的權衡
若未事先定義目的,量測流程極易失焦。我們針對您的產線特性,提供客製化設定:
• 即時判斷型 (Real-time Diagnosis):
核心目標:快。
應用場景:確認探針卡是否需維修或能否立即上機。
優勢:強調結果的可視性與產出速度,縮短產線停機時間。
• 長期監控型 (Long-term Monitoring):
核心目標:穩。
應用場景:追蹤不同批次、時間點或工站間的幾何演變。
優勢:極度重視資料一致性與可追溯性,為製程優化提供數據基底。
2. 量測範圍 (Scope):見樹又見林
高密度探針卡的問題往往具有「隱匿性」。
•  全區掃描 (Global Trend):針對傾斜、翹曲或區域偏移等整體幾何趨勢,避免僅靠「抽樣」帶來的漏測風險。
•  局部聚焦 (Local Focus):針對特定 Pad 或層級,進行高精度重複定位分析。
•  最佳實務:採用「先全區輪廓掃描,再聚焦局部分析」的複合策略,確保不放過任何潛在缺陷。
高密度探針卡良率救星:3D 輪廓量測導入與製程診斷方案

3. 判讀依據 (Basis):從「絕對值」轉向「相對關係」

在高密度結構中,單看「單一針尖高度」是常見的誤判陷阱。我們的系統演算法專注於真正的關鍵:
•  同層針尖的相對高度差。
•  區域性的分布趨勢。
效益: 排除治具姿態或基準偏移(Offset)的干擾,大幅降低誤判率。
4. 結果應用 (User):打破部門孤島
量測結果不應只停留在個人工作站,必須支援跨部門溝通(製程、品管、客戶端)。我們的軟體具備標準化輸出能力:
•  明確的基準定義 (Datum Definition)。
•  統一的資料格式。
•  自動化且可重複的輸出流程。

評估維度

評估維度

資料應用

風險控管

投資回報

傳統/一般量測方式

依賴單點絕對數值,易受治具偏移影響

數據孤島,難以跨部門溝通

抽樣量測,容易漏掉隱匿性缺陷

資料量暴增,但判讀效率低

我們的 3D 輪廓量測策略

 專注「相對空間關係」與「區域趨勢」,數據更真實

標準化格式與定義,無縫對接品管與客戶

全區掃描 + 局部聚焦,全面掌握幾何變化

對齊製程痛點,將數據轉化為實質良率

🙋‍♂️ 工程師常見 QA

Q1:導入 3D 量測會不會讓產線變得很慢?
A: 這取決於「量測目的」的設定。如果是為了「即時診斷」,我們會配置以「快」為核心的掃描參數,確保探針卡能即時上機 ;只有在需要「長期監控」分析時,才進行全數據的深度追蹤。
Q2:我們的治具每次架上去都有公差,這樣測準嗎?
A: 這正是我們強調「相對空間關係」的原因。傳統看絕對數值的方式,很容易受治具姿態影響 。我們的系統透過演算法計算「同層針尖相對高度差」,能有效過濾掉治具產生的 Offset 誤差。
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